EUVリソグラフィ技術

Extreme UltraViolet Lithography technology

超紫外線リソグラフィ技術

これまでのリソグラフィ技術では、0.1ミクロンが限界といわれているが、波長が短い超紫外線を利用することで、非常に微細な回路パターンをシリコンウエハー上に投射できる光学式の露光技術のことです。

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