Depleted Substrate Transistor


テラHzトランジスタの開発に大きく貢献すると、Intel社がHigh k gate dielectricと共に提唱している、シリコン・オン・インシュレータ(SOI)技術より絶縁層が薄く、ON時に電流を最大限スムースにし、OFF時にはリークを最小限に抑えることができる技術です。

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